CVD管式炉

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分类描述
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多优点,比如成膜质量好等。PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很