OTL-PECVD-1200三温区PECVD系统详细介绍：
OTL-PECVD-1200三温区PECVD系统，由OTL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
OL1200-PECVD系统以瑞典Kanthal电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、价格优惠等优点。
1、瑞典Kanthal A1 电阻丝
(1)、表面温度高可达1420℃
(2)、表面为不锈钢色（非常亮、客户识别时要注意）、不会生锈，使用时间再长都不会掉渣。
(3)、Kanthal电阻丝资料下载
(4)、Kanthal电阻丝网站：www.kanthal.com
(5)、电阻均衡、温场均衡性好
2、安装有空气开关和漏电保护器：
当电路过流或漏电时，空开会自动断开。
OTL-PECVD-1200三温区PECVD系统技术参数：
| 型号 | 功率 | 炉管尺寸mm | 外形尺寸mm | 电源电压 |
| OTL-PECVD-12001200-1200-60 | 5.4KW | φ60*1500 | 1200*410*610 | 220V |
| OTL-PECVD-12001200-1200-80 | 5.4KW | φ80*1500 | 1200*410*610 | 220V |
| OTL-PECVD-12001200-1200-100 | 5.4KW | φ100*1500 | 1200*410*610 | 220V |
控温模式：智能PID
断偶保护和显示：有
过温保护：有
过流保护：有
控制精度：+/- 1 ℃
触发器：移相触发
电器：浙江正泰
可控硅：106/16E 德国西门康
最高温度：1200 ℃
额定温度：1100 ℃
升温速率：≤20 ℃/ Min （可根据要求修改）
推荐升温速率：≤10℃/ Min
热电偶型号：K 型
加热段长度：205mm+205mm+205mm
3、可以与电脑连接
该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出
4、炉膛
1、真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。
2、采用日本技术成型。
3、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本最优的热工技术布置、经过热工软件模拟温场
4、采用4周加热，温场更加均衡
5、可选UL认证电气板 （全部通过UL认证的进口电器）
6、认证
7、法兰
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